国内外关于ITO废靶材的资源化利用和无害化处置技术的相关研究较多，主要可分为湿法、火法以及火湿法联合三大类。湿法类主要的提取方式为盐酸浸出，浸出液经氧化法或使用铝粉、锌粉等分离铟锡后再置换得到粗铟，该方法的缺点是铟锡分离率低，氧化锡渣等中含铟约1%～2%，铟直收率﹤97%。
还有学者采用萃取法对废液晶屏中铟锡等进行分离和回收，仅停留在试验室阶段，未能实现产业化。火法类主要的提取方式为氢气还原废靶粉得到铟锡合金，合金再经真空蒸馏分离得到粗铟和粗锡，该方法同样存在铟锡分离不彻底的问题，粗锡中含铟高达1%以上，铟直收率﹤98%。
2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2017年版）》，提出了平板显示用ITO靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。伴随ITO技术和产能突破瓶颈，国产ITO靶材凭借成本和性价比优势将逐步占领市场。
ITO靶材生产所消耗的铟锭占全球铟消费总量的70%左右，其它包括电子半导体领域、合金和焊料领域、研究行业。全球预估铟储量仅5万吨，其中可开采部分仅有50%。